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第277章 Arf光刻（第3页）
众人聚在一起吃便饭——自助餐。
长条桌上，常乐看到零零散散上百道菜依次排开，囊括东南西北各种口味。
常乐说：“老何，没有搞突击吧。”
何融明摇头：“老板，放心，绝对没有搞突击。”
“食堂我亲自抓，也曾带队去过母公司，还有乐达汽车的食堂，考察过。”
“这么说吧，沪微电子的食堂，应该比母公司只好不差。”
“因为我们高薪组建了厨师班，他们每天换着花样做。”
“您现在看到的，都是平常工程师们的日常水准，逢年过节，厨师班还会超水平发挥一下。”
常乐说：“这就好，研发工作非常耗费脑力和精力，在营养方面必须保障，经费绝对不能省。”
接着，何融明谈到下一步研发重点。
“下一步我们将着重攻坚浸入式步进式投影式光刻机，也就是arfi光刻。”
“目前，我们的供应商启尔电机传来了好消息……”
“他们的浸液系统，已经可以将高精度液体温差控制在0。001度，组件试验进展非常顺利，不久就将向我们供货。”
“一旦自主Arfi光刻机研发成功，那么我们与欧美光刻巨头的代差，将缩小到10年以内，仅一代差距。”
“这不是一个令人绝望的鸿沟。”
arfi光刻与arf光刻系出同源，都是深紫外线DUV光刻机。
区别就在于，前者多了一个浸液系统。
通过该系统，将镜头与硅片之间的空间浸入液体中，在液体光折射作用下，能够使激光的实际波长大幅度缩短。
即193纳米等效缩短到134纳米。
从而，实现7-45纳米工艺制程。
到了这个节点，至少10年内，是绝大多数半导体产品的主流。
听完介绍，常乐问：“大概多久能够研发成功……”
何融明说：“顺利的话，应该会在三年内投向市场，不顺利的话，时间很难估计。”
常乐当即举起酒杯：“好，让我们共同预祝研发顺利！”
“干杯！”
“干杯！”
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